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Optical characterization of PMMA phase gratings written by a 387 nm femtosecond laser

  Articoli su Riviste JCR/ISI  (anno 2011)

Autori:  Baum A., De Nicola S., Abdalah S., Al-Naimee K., Geltrude A., Locatelli M., Meucci R., Perrie W., Scully P.J., Taranu A., Arecchi F

Affiliazione Autori:  The Photon Science Institute, University of Manchester, Manchester, M30 9PL, UK; CNR - Istituto Nazionale di Ottica, L. E. Fermi 6, 50125 Firenze, Italy; Dipartimento di Fisica, Università di Firenze, 50019 Sesto Fiorentino, Italy

Riassunto:  We report on the fabrication of optical Bragg type phase gratings in polymethyl methacrylate substrates by a femptosecond Ti: Sapphire laser. As for their optical characterization, a spatially resolved microscopy interferometric technique is used to investigate the two-dimensional distribution of the refractive index change produced by the irradiation process. The technique gives a direct and quantitative two-dimensional profile of the index of refraction in irradiated PMMA, providing information on how the fabrication process depends on the laser irradiation. (C) 2011 Elsevier B.V. All rights reserved.

Rivista/Giornale:  OPTICS COMMUNICATIONS (PRINT)
Volume n.:  284 (12)      Pagine da: 2771  a: 2774
Ulteriori informazioni:  Florence\'s group acknowledges Ente Cassa di Risparmio di Firenze (ECRF) for financial support.
DOI: 10.1016/j.optcom.2011.02.032

*Impact Factor della Rivista: (2011) 1.486   *Citazioni: 4
data tratti da "WEB OF SCIENCE" (marchio registrato di Thomson Reuters) ed aggiornati a:  21/07/2019

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