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Photopolymerization inhibition dynamics for sub-diffraction direct laser writing lithography

  Articoli su Riviste JCR/ISI  (anno 2012)

Autori:  Harke B., Bianchini P., Brandi F., Diaspro A

Affiliazione Autori:  Department of Nanophysics, Istituto Italiano di Tecnologia, Via Morego 30, 16163 Genova, Italy; Department of Physics, University of Genova, 16146 Genova, Italy

Riassunto:  Selective inhibition of the polymerization leads to sub-diffraction feature sizes in direct writing lithography-a principle based on the idea of stimulated emission depletion (STED) microscopy. However, the detailed understanding of the inhibition process is a key point to further enhance the resolution of the system. The authors present experiments focused on the time dynamics of the inhibition process, clarifying possible photophysical pathways.

Rivista/Giornale:  CHEMPHYSCHEM
Volume n.:  13 (6)      Pagine da: 1429  a: 1434
DOI: 10.1002/cphc.201200006

   *Citazioni: 18
data tratti da "WEB OF SCIENCE" (marchio registrato di Thomson Reuters) ed aggiornati a:  19/05/2019

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